惡臭治理--uv光解設(shè)備

 

uv光解設(shè)備是利用***殊的高能、高臭氧紫外光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體的凈化設(shè)備。是目前工業(yè)廢氣處理中非常常見的處理技術(shù)。通常uv光解設(shè)備需要配套凈化才能達(dá)到排放標(biāo)準(zhǔn)。眾所周知，臭氧對(duì)有機(jī)物有很強(qiáng)的氧化作用，對(duì)惡臭氣體和其他刺激性氣味有凈化作用。下面介紹uv光解設(shè)備的除臭原理和產(chǎn)品***點(diǎn)。

操作原理

惡臭氣體通過(guò)排氣設(shè)備輸入凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備利用高能紫外光束和臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解和氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)降解轉(zhuǎn)化為低分子化合物、水和二氧化碳，然后通過(guò)排氣管排放到室外。

一、該產(chǎn)品用***殊的高能、高臭氧的UV光束照射惡臭氣體，對(duì)氨氣、三甲胺、硫化氫、甲基硫化物、甲硫醇、甲基硫化物、二甲基二硫化物、二硫化碳和苯乙烯、硫化物H2S、VOC、苯、甲苯、二甲苯的分子鍵等惡臭氣體進(jìn)行裂解，使游離狀態(tài)的污染物分子氧化并與臭氧結(jié)合，形成小分子無(wú)害或低危害的化合物，如CO2、H2O。

二、利用高能、高臭氧的UV光束分解空氣中的氧分子，產(chǎn)生游離氧，即活性氧，由于游離氧攜帶的正負(fù)電子不平衡，需要與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。

三、利用高能紫外光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，徹底達(dá)到除臭殺菌的目的。

產(chǎn)品***性

1.高效除味:能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨、硫醇等主要污染物，以及各種難聞的氣味。除臭效率***可達(dá)99%以上，除臭效果******超過(guò)1993年頒布的《***家惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》(gb14554-93)。

2.無(wú)需添加任何物質(zhì):只需設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體能夠被設(shè)備除臭、分解、凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。

3.適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度、***氣量及不同惡臭氣體物質(zhì)的除臭凈化處理，可24小時(shí)連續(xù)工作，運(yùn)行穩(wěn)定可靠。

4.運(yùn)行成本低:本設(shè)備無(wú)機(jī)械動(dòng)作，無(wú)噪音，無(wú)需專人管理和日常維護(hù)，只需定期檢查即可。該設(shè)備能耗低(每處理1000立方米/小時(shí)僅消耗約0.2千瓦時(shí)的電能)，風(fēng)阻極低。

5.設(shè)備占地面積小，自重輕:適用于布局緊湊、場(chǎng)地狹小等***殊情況，設(shè)備占地面積小。

適應(yīng)性

uv光解設(shè)備適用范圍:煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站等惡臭廢氣的處理和凈化。為了更有效地降低排放濃度，我公司采用先進(jìn)的技術(shù)理念，研發(fā)高科技環(huán)保凈化產(chǎn)品，能夠徹底分解惡臭氣體中的有毒有害物質(zhì)，達(dá)到除臭效果。分解后的惡臭氣體可以完全實(shí)現(xiàn)無(wú)害化排放，***不會(huì)產(chǎn)生二次污染，同時(shí)實(shí)現(xiàn)高效消毒。